[专业问题讨论] 请教杨老师两个问题

2010-5-28 04:19
26831
请教杨老师,以下两组独权分别有单一性么?
第一组:
权1、一种设备A,包括B、C两部件,其中B上设有凹槽,C上设有可插入所述凹槽的凸起。
权2、一种设备A,包括B、C两部件,其中C上设有凹槽,B上设有可插入所述凹槽的凸起。
设备A由B、C组成是公知尝试,但凹槽和突起是有创造性的;这样的话权1、2中的凹槽算相同或相应的特定技术特征么?

第二组:
权1、一种半导体处理工艺,包括:对半导体材料进行A处理;在半导体材料中制备N型掺杂区。
权2、一种半导体处理工艺,包括:对半导体材料进行A处理;在半导体材料中制备P型掺杂区。
现有技术中是先制造N型掺杂区或P型掺杂区,再对半导体材料进行A处理,而先进行A处理再制造N型掺杂区或P型掺杂区是有创造性的,这样的话权1、2能算有“相应的”技术特征么?
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1 个回复

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专利强国  注册会员 | 2010-5-28 20:51:10

Re:请教杨老师两个问题

您好,
这两组的内容给的不太明晰,请您再阅读一下审查指南关于单一性的内容,可能更有助于您理解和判断
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